-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
1/16
Estudios de Habilidad en la medición con CMM
Ing. Alfonso Cotera Flores
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
2/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 2
USUARIO según (RAE):
• adj. Que usa ordinariamente algo.• der. Dicho de una persona:
Que tienederecho de usar de una cosa ajena con cierta
limitación.
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
3/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 3
TIPOS DE USUARIOS DE CMM:
• PROVEEDOR DE SERVICIOS.- Persona
que opera una CMM para evaluarla,calibrarla, verificarla y
ajustarla.
• CLIENTE/OPERADOR.- Persona queopera una CMM para la Medición
y/ocalibración de piezas ó patrones.
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
4/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 4
MAPEODEL
PROCESO:
PIEZASPRODUCIDAS
PIEZASMEDIDAS
PIEZASVENDIDAS
PIEZASUTILIZADAS
TOLERANCIA
DEFABRICACIÓN
PATRONESPRIMARIOS
VERIFICACIÓNINTERMEDIA
CALIBRACIÓNY AJUSTE
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
5/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 5
MAPEO
DEL
PROCESO:
PIEZASPRODUCIDAS
PIEZASMEDIDAS
PIEZASVENDIDAS
PIEZASUTILIZADAS
TOLERANCIA
DEFABRICACIÓN
PATRONESPRIMARIOS
VERIFICACIÓNINTERMEDIA
CALIBRACIÓNY AJUSTE
STUDIOS
D
HABILIDAD
Cg&Cgk
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
6/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 6
ESTUDIOS DE HABILIDAD Cg&Cgk
Cg (Capability Gages).- Índice de CapacidadPotencial de sistemas
de medición.
Cgk (Capability Gages katayori) .- Índice de la
capacidad real de los sistemas de medición.
g s
BiT Cgk
2
1,0
g
g sT C
42,0
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
7/16Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de
Habilidad en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26
7
T= Tolerancia de fabricación
Sg= Desviación Estándar de medición de una seriede mediciones a
un patrón ó máster.
Bi = Bías, Desviación sistemática de medición
Promedio de una serie de valores del
patrón usando un medio de medición.
Valor de referencia del patrón.
Donde:
m g x x Bi
g x
m x
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
8/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 8
Condición de aceptación:
• Indice de capacidad Cg > 1,33
• Indice de Habilida Cgk > 1,33
• Sistema de tolerancia Minia de evaluación
i g BS T 103
80min
ción EspecificaT min
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
9/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 9
Patrones de referencia utilizados en un CMM:
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
10/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 10
Artefacto diseñado para evaluar elementos geométricos:
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
11/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 11
Anillo patrón Diámetro 50,0007 mm
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
12/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 12
Anillo patrón Diámetro 50,0007 mm
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
13/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 13
Bloque patrón Distancia 50,000 mm
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
14/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 14
Bloque patrón Distancia 50,000 mm
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
15/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 15
Bloque patrón Distancia 400,000 mm
-
8/16/2019 Habilidad en CMM-VWM
16/16
Elaboró:Ing. Alfonso Cotera Flores T ema: Estudios de Habilidad
en CMM Dpto:Sala de Medición Fina PPC Fecha:2010/10/26 16
Bloque patrón Distancia 400,000 mm
