LABORATORIUM
KIMIA FISIKA
Percobaan : PELAPISAN LOGAM Kelompok : X A
Nama : 1. Davi Khoirun Najib NRP. 2313 030 009 2. Zandhika Alfi Pratama NRP. 2313 030 035 3. Rizuana Nadhifatul M. NRP. 2313 030 043 4. Thea Prastiwi Soedarmodjo NRP. 2313 030 095
Tanggal Percobaan : 11 Nopember 2013
Tanggal Penyerahan : 18 Nopember 2013
Dosen Pembimbing : Nurlaili Humaidah, S.T., M.T.
Asisten Laboratorium : Dhaniar Rulandri W
PROGRAM STUDI D3 TEKNIK KIMIA
FAKULTAS TEKNOLOGI INDUSTRI
INSTITUT TEKNOLOGI SEPULUH NOPEMBER
SURABAYA
2013
i
ABSTRAK
Tujuan dari percobaan pelapisan logam ini adalah untuk mengamati reaksi redoks yang
terjadi pada elektroda besi (Fe) di katoda dan tembaga (Cu) di anoda.
Prosedur percobaan pelapisan logam adalah mempersiapkan perangkat elektroplating
lengkap dan bahan-bahan yang diperlukan untuk elektroplating, yaitu CuSO4, lempeng tembaga dan
lempeng besi. Lempeng besi yang akan digunakan sebagai bahan percobaan digosok lalu dicuci
permukaan lempengnya untuk dihilangkan karatnya. Setelah itu, lempeng besi ditimbang untuk
mendapatkan berat awalnya. Selanjutnya, menempatkan lempeng tembaga dan besi masing-masing di
anoda dan katoda. Mengamati peristiwa yang terjadi selama proses percobaan.
Hasil dari pengamatan reaksi redoks yang terjadi pada elektroda besi (Fe) di katoda dan
tembaga (Cu) di anoda adalah lempeng besi menjadi kasar dan warnanya berubah menjadi seperti
warna tembaga. Ini dikarenakan pada saat arus mengalir, tembaga yang digunakan sebagai anoda akan
mengalami oksidasi sehingga melepaskan elektronnya. Sementara lempeng besi akan mengalami reduksi sehingga akan
menerima electron. Kondisi optimum percobaan terjadi pada variabel arus tetap 300 mA yaitu dengan
rata-rata selisih berat sebesar 0,92 gram, sedangkan kondisi minimum terjadi pada variabel arus
tetap 100 mA yaitu dengan rata-rata selisih berat sebesar 0,28 gram. Selisih berat tertinggi terjadi
pada proses pelapisan logam dengan variabel waktu 20 menit yaitu sebesar 1,4 gram. Sedangkan
pada proses pelapisan logam dengan variabel waktu 5 menit memiliki selisih berat terendah yaitu 0,5
gram.
Kata Kunci : elektroplating, tembaga, besi
ii
DAFTAR ISI
ABSTRAK .......................................................................................................................... i
DAFTAR ISI ....................................................................................................................... ii
DAFTAR GAMBAR ........................................................................................................... iii
DAFTAR TABEL .............................................................................................................. iv
BAB I PENDAHULUAN
I.1 Latar Belakang ....................................................................................................... I-1
I.2 Perumusan Masalah ............................................................................................... I-2
I.3 Tujuan Percobaan ................................................................................................... I-2
BAB II TINAJUAN PUSTAKA
II.1 Dasar Teori ............................................................................................................ II-1
BAB III METODOLOGI PERCOBAAN
III.1 Variabel Percobaan ............................................................................................... III-1
III.2 Bahan yang Digunakan......................................................................................... III-1
III.3 Alat yang Digunakan ............................................................................................ III-1
III.4 Prosedur Percobaan .............................................................................................. III-1
III.5 Diagram Alir Percobaan ....................................................................................... III-2
III.6 Gambar Alat Percobaan ........................................................................................ III-3
BAB IV HASIL PERCOBAAN DAN PERHITUNGAN
IV. Pembahasan ............................................................................................................ IV-1
BAB V KESIMPULAN ...................................................................................................... V-1
DAFTAR PUSTAKA ......................................................................................................... v
DAFTAR NOTASI ............................................................................................................. vi
APPENDIKS ....................................................................................................................... vii
LAMPIRAN :
Laporan Sementara
Lembar Revisi
iii
DAFTAR GAMBAR
Gambar II.1 Proses Electroplating....................................................................................... .II-7
Gambar II.2 Skema Pelapisan Logam...................................................................................II-12
Gambar III.6 Gambar Alat Percobaan ................................................................................. III-3
iv
DAFTAR TABEL
Tabel II.1 Pengertian Reduksi dan oksidasi......................................................................... II-3
Tabel II.2 Perbedaan oksidator dan reduktor....................................................................... II-4
Tabel IV.1 Pengaruh Waktu terhadap Selisih Berat dengan Arus Tetap 100 mA............... IV-1
Tabel IV.2 Pengaruh Waktu terhadap Kuat Arus dengan Arus Tetap 100 mA................... IV-2
Tabel IV.3 Pengaruh Waktu terhadap Selisih Berat dengan Arus Tetap 300 mA............... IV-3
Tabel IV.4 Pengaruh Waktu terhadap Kuat Arus dengan Arus Tetap 300 mA.................... II-4
v
DAFTAR GRAFIK
Grafik IV.1 Pengaruh Waktu terhadap Selisih Berat dengan Arus Tetap 100 mA ......... IV-2
Grafik IV. 2 Pengaruh Waktu terhadap Kuat Arus dengan Arus Tetap 100 mA ............. IV-3
Grafik IV.3 Pengaruh Waktu terhadap Selisih Berat dengan Arus Tetap 300 mA .......... IV-4
Grafik IV.4 Pengaruh Waktu terhadap Kuat Arus dengan Arus Tetap 300 mA .............. IV-5
I-1
BAB I
PENDAHULUAN
I.1. Latar Belakang
Melakukan praktikum adalah suatu kebutuhan dalam pembelajaran kimia fisika yang
merupakan mata kuliah di D3 Teknik Kimia. Praktikum ini bertujuan untuk
memperdalam pengetahuan dan membuktikan teori-teori yang diberikan saat bangku
kuliah serta untuk mempersiapkan masing-masing individu di dunia kerja.
Banyak Praktikum dalam mata kuliah kimia fisika ini, salah satunya adalah
Pratikum Pelapisan Logam. Praktikum ini dilakukan karena bertujuan untuk mengetahui
reaksi redoks pada proses sel elektrokimia. Tidak hanya itu, praktikum ini juga sangat
bermanfaat khususnya dalam aplikasi kerja yang berhubungan dengan perawatan logam
dalam skala besar. Dari praktikum ini dapat diaplikasikan di kehidupan sehari-hari,
misalnya untuk pelapisan emas, besi untuk struktur bangunan rumah, dan sebagainya agar
tidak mudah mengalami korosi. Karena apabila suatu logam mengalami korosi tentu
menurunkan kualitas dari logam tersebut.
Korosi adalah kerusakan atau degradasi logam akibat reaksi redoks antara suatu
logam dengan berbagai zat di lingkungannya yang menghasilkan senyawa - senyawa
yang tidak dikehendaki, biasa disebut perkaratan. Untuk itu diperlukan suatu cara untuk
mengatasinya, yaitu dengan pelapisan logam.
Pelapisan logam adalah cara yang dilakukan untuk memberikan sifat tertentu pada
permukaan logam yang tujuannya agar logam mengalami perbaikan yang lebih baik dari
hal struktur, mikro maupun tekanannya. Salah satu pelapisan logam tersebut adalah
Electroplating. Electroplating merupakan proses pelapisan logam dengan menggunakan
bantuan arus listrik dan senyawa kimia tertentu yang digunakan untuk memindahkan
partikel logam pelapis ke material yang hendak dilapisi. Pada proses pelapisan ini banyak
faktor yang mempengaruhi pembentukan pelapisan logam, antara lain pengadukan, rapat
arus, temperature, pH larutan elektrolit dan waktu yang digunakan selama proses
berlangsung. Tujuan pelapisan logam tidak luput dari tiga hal, yaitu untuk meningkatkan
sifat teknis atau mekanisme dari suatu logam, melindungi logam, dan memperindah
tampilan.
I-2
Bab I Pendahuluan
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
I.2 Rumusan Masalah
1. Bagaimana reaksi redoks yang terjadi pada elektroda besi (Fe) di katoda dan
tembaga (Cu) di anoda ?
I.3 Tujuan Percobaan
1. Mengamati reaksi redoks yang terjadi pada elektroda besi (Fe) di katoda dan
tembaga (Cu) di anoda.
II-1
BAB II
TINJAUAN PUSTAKA
II..1 Dasar Teori
Pelapisan adalah suatu cara yang dilakukan untuk memberikan sifat tertentu pada
suatu permukaan benda kerja, dimana diharapkan benda tersebut akan mengalami
perbaikan dalam hal struktur mikro maupun ketahanannya, dan tidak menutup
kemungkinan pada perbaikan terhadap sifat fisiknya. Sementara logam adalah sebuah
unsur kimia yang siap dan bisa membentuk ion/kation dan memiliki ikatan logam. Jadi,
dengan demikian pelapisan logam adalah cara yang dilakukan untuk memberikan sifat
tertentu pada permukaan logam yang tujuannya agar logam mengalami perbaikan yang
lebih baik dari hal struktur mikro maupun tekannanya.
Konsep dasar dalam melindungi logam adalah upaya agar tidak terjadi pertukaran
ion antara logam dengan lingkungan.
Lapisan metalik merupakan penghalang yang sinambung antara permukaan logam
dan lingkungan sekelilingnya. Sifat-sifat ideal bahan pelapis dari logam ini dapat
diringkaskan sebagai berikut:
1. Logam pelapis harus jauh lebih tahan terhadap pengaruh lingkungan
dibandingkan logam yang dilindungi.
2. Logam pelapis tidak boleh memicu korosi pada logam yang dilindungi
senandainya mengalami goresan atau pecah dipermukaannya.
3. Sifat-sifat fisik, seperti kekuatan, keuletan dan kekerasannya, harus cukup
memenuhi persyaratan operasional struktur/komponen bersangkutan.
4. Tebal lapisan harus merata dan bebas dari pori-pori (persyaratan ini hampir tidak
mungkin terpenuhi).
Reaksi Redoks adalah reaksi yang didalamnya terjadi perpindahan elektron secara
berurutan dari satu spesies kimia ke spesies kimia lainnya, yang sesungguhnya terdiri
atas dua reaksi yang berbeda, yaitu oksidasi (kehilangan elektron) dan reduksi
(memperoleh elektron). Reaksi ini merupakan pasangan, sebab elektron yang hilang
pada reaksi oksidasi sama dengan elektron yang diperoleh pada reaksi reduksi. Masing-
II-2
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
masing reaksi (oksidasi dan reduksi) disebut reaksi paruh (setengah reaksi), sebab
diperlukan dua setengah reaksi ini untuk membentuk sebuah reaksi dan reaksi
keseluruhannya disebut reaksi redoks.
Elektrokimia adalah salah satu dari cabang ilmu kimia yang mengkaji tentang
perubahan bentuk energi listrik menjadi energi kimia dan sebaliknya. Proses
elektrokimia melibatkan reaksi redoks. Proses transfer elektron akan menghasilkan
sejumlah energi listrik. Aplikasi elektrokimia dapat diterapkan dalam dua jenis sel, yaitu
sel volta dan sel elektrolisis. Sebelum membahas kedua jenis sel tersebut, kita terlebih
dahulu akan mempelajari metode penyetaraan reaksi redoks.
Persamaan reaksi redoks biasanya sangat kompleks, sehingga metode penyeteraan
reaksi kimia biasa tidak dapat diterapkan dengan baik. Dengan demikian, para
kimiawan mengembangkan dua metode untuk menyetarakan persamaan redoks. Salah
satu metode disebut metode perubahan bilangan oksidasi (PBO), yang berdasarkan pada
perubahan bilangan oksidasi yang terjadi selama reaksi. Metode lain, disebut metode
setengah reaksi (metode ion-elektron). Metode ini melibatkan dua buah reaksi paruh,
yang kemudian digabungkan menjadi reaksi redoks keseluruhan.
II.2 Reaksi Redoks
II.2.1 Pengertian Reaksi Redoks
Reaksi redoks adalah reaksi kimia yang disertai perubahan bilangan oksidasi atau
reaksi yang didalamnya terdapat serah terima elektron antar zat. Reaksi redoks
sederhana dapat sederhana dapat disederhanakan dengan mudah tanpa metode khusus.
Akan tetapi untuk reaksi yang cukup kompleks, ada dua metode yang dapat digunakan
untuk menyetarakannya yaitu :
1. Metode bilangan oksidasi, yang digunakan untuk reaksi yang berlangsung tanpa
atau dalam air, dan memiliki persamaan reaksi lengkap (bukan ionik).
2. Metode setengah reksi (metode ion elektron), yang digunakan untuk reaksi yang
berlangsung dalam air dan memiliki persamaan ionik.
II-3
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
Ada tiga definisi yang dapat digunakan untuk oksidasi, yaitu kehilangan elektron,
memperoleh oksigen, atau kehilangan hidrogen. Oksidasi adalah kehilangan satu atau
lebih elektron yang dialami oleh suatu atom,molekul, atau ion, sementara reduksi adalah
perolehan elektron. Tidak ada elektron bebas dalam sistem kimiawi selalu disertai oleh
perolehan elektron pada bagian yang lainnya . istilah reaksi transfer elektron terkadang
digunakan untuk reaksi-reaksi redoks
Tabel II.1 Tabel pengertian Reduksi dan oksidasi
Oksidasi Reduksi
Pengertian Klasik Reaksi antara suatu zat dengan
oksigen
Reaksi antara suatu zat
dengan hidrogen
Pengertian Modern Reaksi dimana terjadi kenaikan
bilangan oksidasi
Reaksi dimana terjadi
penurunan bilangan oksidasi
Reaksi dimana terjadi
pelepasan elektron
Reaksi dimana terjadi
penangkapan elektron
II-4
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
Tabel II.2 Tabel perbedaan oksidator dan reduktor
Oksidator Reduktor
Zat yang dalam reaksinya mengalami
reduksi
Zat yang dalam reaksinya mengalami
oksidasi
Zat yang dalam reaksinya mengalami
penurunan bilangan oksidasi
Zat yang dalam reaksinya mengalami
kenaikan bilangan oksidasi
Zat yang mampu mengoksidasi zat lain Zat yang mampu mereduksi zat lain
Zat yang dapat menangkap elektron dari
zat lain
Zat yang dapat memberikan elektron pada
zat lain
(IPIEMS, 1983)
II.2.2 Konsep-konsep dasar Redoks :
1. Oksidasi adalah peristiwa pelepasan elektron atau penambahan (kenaikan)
bilangan oksidasi
2. Reduksi adalah peristiwa penangkapan elektron atau pengurangan (penurunan)
bilangan oksidasi
3. Reduktor (pereduksi) adalah zat yang mengalami oksidasi atau zat yang
melepaskan elektron, atau zat yang bilangan oksidasinya naik
4. Oksidator adalah zat yang mengalami reduksi atau zat yang menangkap elektron
atau zat yang bilangan oksidasinya turun
5. Redoks adalah reaksi yang terdiri dari peristiwa reduksi dan oksidasi atau reaksi
perubahan bilangan oksidasi
6. Reaksi disproporsionasi (autoredoks) adalah reaksi redoks dimana hanya satu
jenis atom yang mengalami reduksi dan oksidasi atau reaksi redoks dimana
hanya satu jenis atom yang bilangan oksidasinya berubah.
II-5
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
7. Mol elektron adalah selisih bilangan oksidasi. (Andriani)
II.3 Pelapisan Logam
II.3.1 Pengertian Pelapisan Logam
Electroplating adalah proses pelapisan logam yang menggunakan prinsip
elektrokomia. Dalam metode ini komponen bersama dengan batangan atau lempengan
logam yang akan dilapisi, direndam dalam suatu larutan elektrolit yang mengandung
garam-garam logam pelapis.
Elektroplating dibuat dengan jalan mengalirkan arus listrik melalui larutan
antara logam atau material lain yang konduktif. Dua buah plat logam merupakan anoda
dan katoda dihubungkan pada kutub positif dan negatif terminal sumber arus searah
(DC). Logam yang terhubung dengan kutub positif disebut anoda dan yang terhubung
dengan kutub negatif disebut katoda. Ketika sumber tegangan digunakan pada elektrolit,
maka kutub positif mengeluarkan ion bergerak dalam larutan menuju katoda dan disebut
sebagai kation. Kutub negatif juga mengeluarkan ion, bergerak menuju anoda
dan disebut sebagai anion. Larutannya disebut elektrolit.
Besarnya listrik yang mengalir yang dinyatakan dengan Coulomb adalah sama
dengan arus listrik dikalikan dengan waktu. Dalam pemakaian secara umum atau dalam
pemakaian elektroplating satuannya adalah ampere-jam (Ampere-hour) yang besarnya
3600 coulomb, yaitu sama dengan listrik yang mengalir ketika arus listrik sebesar 1
ampere mengalir selama 1 jam.
Untuk menentukan tebal pelapisan yang terjadi perlu diketahui berat jenis dari
logam yang terlapis pada katoda. Efisiensi plating pada umumnya dinyatakan sebagai
efisiensi arus anoda maupun katoda. Efisiensi katoda yaitu arus yang digunakan untuk
pengendapan logam pada katoda dibandingkan dengan total arus masuk. Arus yang
tidak dipakai untuk pengendapan digunakan untuk penguraian air membentuk gas
hidrogen, hilang menjadi panas atau pengendapan logam-logam lain sebagai impuritas
yang tak diinginkan. Efisiensi anoda yaitu perbandingan antara jumlah logam yang
terlarut dalam elektrolit dibanding dengan jumlah teoritis yang dapat larut menurut
Hukum Faraday.Kondisi plating yang baik bila diperoleh efisiensi katoda sama dengan
II-6
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
efisiensi anoda, sehingga konsentrasi larutan bila menggunakan anoda aktif akan selalu
tetap.
Efisiensi arus katoda sering dipakai sebagai pedoman menilai apakah semua
arus yang masuk digunakan untuk mengendapkan ion logam pada katoda sehingga
didapat efisiensi plating sebesar 100% ataukah lebih kecil. Adanya kebocoran arus
listrik, larutan yang tidak homogen dan elektrolisis air merupakan beberapa penyebab
rendahnya efisiensi. Elektrolisis air merupakan reaksi samping yang menghasilkan gas
hidrogen pada katoda dan gas oksigen pada anoda. Reaksi elektrolisis air dapat
dituliskan sebagai berikut :
Secara praktis efisiensi plating dinyatakan sebagai perbandingan berat nyata
terhadap berat teoritis endapan pada katoda. Apabila logam dimasukkan pada larutan
yang mengandung ionnya sendiri akan menimbulkan beda potensial antara logam
tersebut dengan larutan. Beda potensial ini disebabkan karena atom dari logam untuk
menjadikan satu atau lebih muatan negatif dan lepas ke larutan dalam bentuk ion.
Pada saat yang bersamaan terjadi reaksi kebalikan dalam larutan. Dua reaksi
yang berlawanan tersebut berlangsung pada kecepatan yang tidak sama, maka potensial
ini akan diatur oleh permukaan logam dan elekrolit yang berhubungan dengan
permukaan logam. Akhirnya kondisi setimbang tercapai dimana ionisasi dan pelepasan
berlangsung tepat pada kecepatan yang sama. Kesetimbangan ini disebut dengan
potensial kesetimbangan atau potensial bolak-balik pada partikel logam pada laruan
yang dipergunakan.
Potensial elektroda standar berdasarkan skala hidrogen, dimana semua logam-
logam sebelum hidrogen pada skala hidrogen mampu menggantikan hidrogen dari
larutan yang mengandung ion hidrogen, dan logam-logam setelah hidrogen pada skala
hidrogen biasanya tidak dapat menggantikan hidrogen secara langsung.
II-7
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
Logam seng, timah hitam dan timah putih dinamakan logam dasar karena mudah
larut di dalam asam dan ditunjukkan oleh tanda potensial negatif, sedangkan kebalikan
dari ketiga logam diatas adalah logam mulia seperi tembaga, perak dan emas
ditunjukkan oleh tanda potensial positif.
Gambar II.1 Proses Electroplating
.Pada electroplating terdapat dua buah elektroda, dimana elekroda yang
dihubungkan dengan kutub positif disebut anoda dan elektroda yang dihubungkan
dengan kutub negatif disebut katoda. Ciri-ciri dari elektroda tersebut adalah:
a. Anoda: 1. Kutub positip
2. Terjadi reaksi oksidasi
3. Terjadi pelepasan elektron keluar sirkuit
b. Katoda: 1. Kutub negatif
2. Terjadi reaksi reduksi
3. Menerima elektron dari sirkuit luar
Ada dua macam Anoda yang sering digunakan dalam proses electroplating, yaitu
anoda larut, yang berarti anoda yang selama proses memberikan ion-ion logamnya
kepada katoda sehingga makin lama makin habis terkikis. Contohnya adalah tembaga
(Cu), seng (Zn), nikel (Ni), timah putih (Sn), perak (Ag), dll.
Dan ada jenis yang kedua adalah anoda yang tidak dapat larut, yang berarti selama
proses berlangsung anoda ini tidak terkikis. Contohnya adalah karbon (C), platina (Pt),
imah hitam (Pb), dll.
Sementara katoda adalah logam yang akan dilapisi. Logam-logam dapat disususun
dalam suatu deret menurut kenaikan potensial elektrodenya yang disebut Deret Volta.
II-8
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
Semakin ke kiri posisi logam maka potensial elektodenya makin kecil, yang
menyebabkan logam mudah mengalami oksidasi. Sebaliknya, semakin kekanan posisi
logam maka potensial elektrodenya makin besar, yang menyebabkan logam sulit
mengalami oksidasi melainkan mengalami reduksi.
Proses pelapisan elekroplating memiliki kelebihan dan kekurangan dalam
penggunannya. Kelebihannya adalah:
a. Temperatur proses rendah sekitar 60°-70°C
b. Ketebalan lapisan mudah dikendalikan
c. Permukaan halus dan mengkilap
d. Laju pengendapan cepat
e. Porositas pada lapisan relatif rendah
Kekurangannya adalah:
a. Terbatas pada logam dan paduannya
b. Perlu perlakuan awal terhadap benda kerja
c. Terbatas pada benda kerja yang bersifat konduktur
II.3.2 Macam-macam Pelapisan Logam
1. PELAPISAN TEMBAGA
Dalam pelapisan tembaga digunakan bermacam-macan larutan elektrolit, yaitu :
1. Larutan asam
2. Larutan sianida
3. Larutan fluoborat
4. Larutan pyrophosphat
Diantara empat macam larutan di atas yang paling banyak digunakan adalah larutan
asam dan larutan sianida (mgmpkimiabms, 2009)
Li K Ba Ca Na Mg Al Mn Zn Cr Fe Ni Sn Pb H Cu Hg Ag Pt Au
II-9
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
2. PELAPISAN TIMAH PUTIH
Pelapisan timah putih pada besi dengan cara listrik (elektroplating) sudah sangat
lama dilakukan untuk kaleng-kaleng makanan, minuman dan sebagainya. Pelapisan
secara listrik pada umumnya sudah menggantikan pelapisan secara celup panas, karena
pelapisan secara celup panas menghasilkan lapisan yang tebal dan kurang merata
(kurang halus) sedangkan pelapisan secara listrik dapat menghasilkan lapisan yang tipis
dan lebih merata/halus. Dengan keuntungan tersebut pada saat ini lebih banyak industri
yang melakukan pelapisan timah putih secara listrik dari pada secara celup panas
(mgmpkimiabms, 2009).
3. PELAPISAN SENG
Seng sudah lama dikenal sebagai pelapis besi yang tahan korosi, murah harganya,
dan mempunyai tampak permukaan yang cukup baik. Pelapisan senga pada besi
dilaksanakan dengan beberapa cara seperti galvanizing, sherardizing, atau metal
spraying. Namun pelapisan secara listrik (elektroplating) lebih disukai karena
mempunyai beberapa keuntungan bila dibandingkan dengan cara-cara pelapisan yang
lain, diantaranya :
a. Lapisan lebih merata
b. Daya rekat lapisan lebih baik
c. Tampak permukaan lebih baik.
Karena beberapa keuntungan itulah maka lebih banyak dilaksanakan pelapisan
secara listrik daripada cara-cara lainnya. Pelapisan seng secara listrik kadang juga
disebut elektro-galvanizing. Larutan elektrolit yang sering digunakan ada dua macam
yaitu larutan asam dan larutan sianida. Bila kedua larutan tersebut dibandingkan maka
permukaan lapisan hasil dari penggunaan larutan sianida adalah lebih baik jika
dibandingkan dengan larutan asam. Namun larutan asam digunakan bila dikehendaki
kecepatan pelapisan yang tinggi dan biaya yang lebih murah.Larutan lain yang sering
digunakan pada pelapisan adalah larutan alkali zincat dan larutan pyrophosphate
(mgmpkimiabms, 2009).
II-10
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
4. PELAPISAN NIKEL
Pada saat ini, pelapisan nikel pada besi banyak sekali dilaksanakan baik untuk
tujuan pencegahan karat ataupun untuk menambah keindahan. Dengan hasil lapisannya
yang mengkilap maka dari segi ini nikel adalah yang paling banyak diinginkan untuk
melapis permukaan. Dalam pelapisan nikel selain dikenal lapisan mengkilap, terdapat
juga jenis pelapisan yang buram hasilnya. Akan tetapi tampak permukaan yang buram
inipun dapat juga digosok hingga halus dan mengkilap. Jenis lain dari pelapisan nikel
adalah pelapisan yang berwarna hitam. Warna hitam inipun tampak menarik dan
digunakan biasanya untuk melapis laras senapan dan lainnya (mgmpkimiabms, 2009).
5. PELAPISAN KHROM
Selain nikel, maka pelapisan khrom banyak dilaksanakan untuk mendapatkan
permukaan yang menarik. Karena sifat khas khrom yang sangat tahan karat maka
pelapisan khrom mempunyai kelebihaan tersendiri bila dibandingkan dengan pelapisan
lainnya. Selain sifat dekoratif dan atraktif dari pelapisan khrom, keuntungan lain dari
pelapisan khrom adalah dapat dicapainya hasil pelapisan yang keras. Sumber logam
khrom didapat dari asam khrom, tapi dalam perdagangan yang tersedia adalah khrom
oksida (Cr O3) sehingga terdapatnya asam khrom adalah pada waktu khrom oksida
bercampur dengan air (mgmpkimiabms, 2009).
Pelapisan Logam Ditinjau dan Sifat Elekrokimia Bahan Pelapis
A. Pelapisan Anodik
Pelapisan anodik merupakan pelapisan dimana potensial listrik logam pelapis
lebih anodik terhadap substrat. Keunggulan dari pelapisan ini adalah sifat logam
pelapis yang bersifat melindungi logam yang dilapisi sehingga walaupun terjadi
cacat pada permukaan pelapis karena sebab seperti tergores., reak, dll.
B. Pelapisan Katodik
Pelapisan katodik merupakan pelapisan diamna potensial listrik logam pelapis
lebih katodik terhadap substrat. Contohnya pelapisan tembaga pada potensial listrik
II-11
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
+0,34 Volt yang dilapisi dengan logam emas dengan potensial listrik +1,5 Volt.
Karena logam emas bersifat lebih mulia dibandingkan tembaga, maka apabila logam
pelapis mengalami cacat, logam yang dilapisi akan terekspos keluar lingkungan dan
bersifat anodik sehingga akan terjadi korosi lokal yang intensif terhadap substrat.
II.3.3 Metode-metode Pelapisan dengan Logam
1. Pencelupan Panas (hot dipping)
Dalam metode ini, sruktur dicelupkan ke dalam bak berisi lelehan logam pelapis.
Pengaturan tebal lapisan dalam proses ini cukup sulit karena lapisan dalam proses ini
cukup sulit karena lapisan cenderung tidak merata, yaitu tebal pada permukaan bawah
tetapi tipis pada permukaan atas. Proses ini terbatas untuk logam-logam yang memiliki
titik lebur rendah, misalnya timah, seng, dan aluminium.
2. Penyemprotan
Logam pelapis berbentuk kawat diumpankan pada bagian depan penyembur api,
dan begitu meleleleh segera dihembuskan dengan tekanan tinggi menjadi butir-butir
yang halus. Butir-butir halus yang terlempar itu menjadi pipih ketika membentur
permukaan logam dan melekat disitu.
3. Penempelan (clad coating)
Kulit dari logam yang tahan korosi dapat dilapiskan ke logam lain yang tidak
mempunyai ketahanan terhadap korosi lingkungan kerjanya. Kulit dipasang dengan cara
rooling, dan membuat lapisan pengelasan di atas logam, suatu proses yang disebut
buttering.
4. Pelapisan Difusi
Proses ini hanya untuk benda-benda yang relatif kecil. Komponen yang hendak
diproses mula-mula dibersihkan dari kotoran dan lemak, kemudian dipanaskan dalam
keadaan kontak dengan tepung pelapis di udara lembab (solid route), atau dalam aliran
gas senyawa mudah menguap dari logam pelapis (gaseous route).
II-12
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
5. Pelapisan Listrik (Electroplating)
Electroplating adalah proses pelapisan logam yang menggunakan prinsip
elektrokomia. Dalam metode ini komponen bersama dengan batangan atau lempengan
logam yang akan dilapisi, direndam dalam suatu larutan elektrolit yang mengandung
garam-garam logam pelapis. Dalam metode ini ada istilah throwing power yang
diartikan dengan kemampuan logam penyalut untuk menghasilkan ketebalan merata
sejalan dengan terus berubahnya panjang lintasan antara anoda dan permukaan
komponen selama pelapisan. Pengendapan terjadi pada benda kerja yang berlaku
sebagai katoda.
Gambar II.2 Skema Pelapisan Logam
Reaksi kimia yang terjadi pada proses elektroplating dapat dijelaskan
sebagai berikut:
1) Pembentukan lapisan nikel (Ni)
Ni2+
(aq) + 2e Ni(s)
2) Pembentkan gas hidrogen (H)
2H+
(aq) + 2e H2 (g)
3) Reduksi oksigen terlarut
½O2 (aq) + 2H+
(g) H2O (g)
II-13
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
Mekanisme terjadinya pelapisan adalah dimulai dari dikelilinginya ion-ion
logam oleh molekul-molekul pelarut yang mengalami polarisasi. Didekat permukaan
katoda, terbentuk daerah Electrical Double Layer (EDL) yang bertindak seperti lapisan
dielektrik. Adanya lapisan EDL memberi beban tambahan bagi ion-ion untuk
menembusnya. Dengan gaya dorong beda potensial listrik dan dibantu oleh reaksi-
reaksi kimia, ion-ion logam akan menuju permukaan katoda dan menangkap elektron
dari sambil mendeposisikan diri dipermukaan katoda. Dalam kondisi equilibrium,
setelah ion-ion mengalami discharge menjadi atom-atom kemudian akan menempatkan
diri pada permukaan katoda dengan mula-mula menyesuaikan mengikuti susunan atom
dari material katoda.
Salah satu tujuan plating/pelapisan ialah upaya mencegah korosi. Peristiwa
korosi disebabkan oleh reaksi logam dari lingkungannya.
1. Lingkungan berwujud gas, udara dengan rentang temperatur -10°C hingga +30°C.
Beberapa metode yang digunakan untuk mengurangi laju korosi udara bebas
adalah:
a. Menurunkan kelembaban relatif
b. Menghilangkan komponen mudah menguap yang dihasilkan oleh bahan-bahan
disekitar.
c. Mengubah temperatur
d. Menghilangkan kotoran, endapan yang akan membentuk katoda dan ion-ion
agresif.
2. Bahan terendam di air bebas yang cukup mengandung ion untuk menjadikannya
sebuah elektrolit.
a. Menurunkan konduktivitas ionik
b. Mengubah pH
c. Secara homogen mengurangi kandungan oksigen
d. Mengubah temperatur
II-14
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
II.3.4. Hukum-Hukum yang Mendasari Pelapisan Logam
A. Hukum Faraday
Michael Faraday menemukan hubungan antara produk suatu endapan dengan
jumlah arus dan waktu yang digunakan, yaitu :
1. Berat dari logam yang diendapkan (w) pada saat berlangsung proses elektrolisa
berbanding lurus dengan jumlah kuat arus (I) dan waktu (t).
2. Untuk jumlah arus yang sama, berat dari logam yang diendapkan berbanding lurus
dengan ekivalen kimianya.
Pernyataan diatas dapat dirumuskan sebagai berikut :
Dengan :
W = berat logam yang diendapkan (gr)
I = arus yang digunakan (Ampere)
t = waktu (detik)
A = berat atom (gr/mol)
z = valensi
F = bilangan Faraday = 96500 Coulomb/mol
Dari rumus diatas, ketebalan deposit dapat diperoleh dengan asumsi deposit
sepanjang permukaan seragam (Sanders,1950:7). Untuk mengetahui ketebalan deposit
maka kita harus mengetahui volume dari logam, dan hubungan tersebut sebagai berikut:
Dengan :
Fz
AtIW
Density= Kerapatan
Logam
II-15
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
Ketebalan endapan dapat ditentukan sebagai berikut:
Hukum Faraday dapat menjelaskan pengaruh penambahan waktu pada proses
pelapisan logam dengan listrik. Semakin lama waktu yang digunakan, maka deposit
logam yang dihasilkan juga semakin besar (Anonim, 2011).
Andriani, D. (t.thn.). Reaksi Redoks. Dipetik November 11, 2013, dari Pembelajaran Kimia:
http://dessykimiapasca.wordpress.com/kimia-xii/reaksi-redoks/pengertian/
II-16
Bab II Tinjauan Pustaka
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
Anonim. (2011). Dipetik November 11, 2013, dari http://www.repository.usu.ac.id
IPIEMS. (1983). Dalam Edumedia. Surabaya.
mgmpkimiabms. (2009). Pelapisan Logam (Elektroplating). Dipetik November 11, 2013, dari
MGMP KIMIA KABUPATEN BANYUMAS:
http://mgmpkimiabms.wordpress.com/2009/11/05/pelapisan-logam-elektroplating/
III-1
BAB III
METODOLOGI PERCOBAAN
III.1 Variabel Percobaan
a) Variabel Bebas :
Waktu : 4 menit, 8 menit, 12 menit, 16 menit, dan 20 menit
Arus : 100 mA dan 300 mA
b) Variabel Kontrol
Volume CuSO4
III.2 Alat
1. Amperemeter
2. Penjepit
3. Voltmeter
4. Lempengan Tembaga
III.3 Bahan
1. Logam Cu
2. Lempengan Besi
3. CuSO4 0,1 N
4. HCl
5. Aquades
III.4 Prosedur percobaan
Tahap persiapan
1. Menyiapkan alat dan bahan yang dibutuhkan
2. Membersihkan logam besi (Fe) yang akan dilapisi dengan menggosok
menggunakan amplas dan mencelupkan logam besi dalam larutan HCl
3. Menimbang logam besi yang telah kering satu persatu sebagai berat awal (W0)
dengan menggunakan neraca analitik
4. Kemudian mencatatnya dalam tabel
Tahap percobaan
1. Percobaan pertama menggunakan variabel kuat arus 100 mA dan variabel
waktu yaitu 4 menit,8 menit, 12 menit, 16 menit, 20 menit.
2. Tembaga ditempatkan di anoda dan besi ditempatkan katoda.
III-2
BAB III METODOLOGI PERCOBAAN
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
3. Percobaan kedua menggunakan variabel kuat arus 300 mA dan variabel waktu
yaitu 4 menit, 8 menit, 12 menit, 16 menit, 20 menit.
4. Tembaga ditempatkan di anoda dan besi ditempatkan katoda.
5. Menimbang berat masing- masing logam besi setelah melalui proses
elektroplating (pelapisan logam menggunakan listrik). Kemudian mencatatnya
dalam tabel sebagai berat akhir (Wt).
6. Mengulang percobaan tersebut sesuai variabel percobaan.
III.5 Diagram Alir
Mulai
Menggosok permukaan lembeng besi dengan menggunakan
amplas dan mencelupkannya ke dalam larutan HCl
Menimbang logam besi (Fe) yang telah kering sebagai berat
awal (W0)
Memasang logam besi (Fe) yang dilapisi katoda (-)
Elekktroplating logam Cu sebagai lapisannya
Keringkan logam kemudian timbang sebagai berat akhir (Wt)
Selesai
III-3
BAB III METODOLOGI PERCOBAAN
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
III.6 Gambar Alat
Neraca analitik
Penjepit
Stopwatch
Piringan (pan)
neraca
Layar LCD
kaca
Tombol power
on/off
Amperemeter
Skala ampere
Terminal positif (+)
Terminal negative (-)
Beaker Glass
IV-1
BAB IV
HASIL PERCOBAAN DAN PEMBAHASAN
IV. Pembahasan
Electroplating adalah proses pelapisan suatu logam dengan logam lain yang lebih tahan
terhadap korosi. Pada praktikum ini, logam yang dilapisi yaitu lempeng besi dengan logam pelapis tembaga.
Yang mana sifat dari besi yang mudah mengalami korosi ketika kontak dengan udara. Oleh karena itu perlu
adanya pelapisan dengan logam lain agar besi tidak mudah mengalami korosi. Sebelum dilakukan praktikum,
lempeng tersebut dibersihkan untuk dihilangkan karatnya agar lapisan yang terbentuk relatif lebih kuat dan
tidak mudah mengelupas.
Proses pembersihan lempeng besi dilakukan dalam dua tahap yaitu pembersihan karat dan
pencucian karat. Proses pembersihan karat dilakukan dengan menggunakan amplas yang bertujuan untuk
menghilangkan sebagian karat dan juga memperhalus permukaan lempeng. Penghilangan karat pada tahap
ini hanya sebagian saja yang bisa dihilangkan. Oleh karena itu pada tahap selanjutnya akan dibersihkan lagi.
Tahap selanjutnya yaitu pencucian karat dengan larutan pencuci 0,3 N HCl. Pada tahap ini peristiwa
yang bisa diamati adalah larutan menjadi warna keruh akibat karat besi yang terlepas dari lempeng besi.
Setelah dilakukan tahap persiapan, didapatkan lempeng besi yang halus kemudian ditimbang sebagai berat
awal (W0) sebelum dilapisi logam. Telah didapatkan berat awal lempeng besi yaitu 12,5 gram dan 8,5 gram,
selanjutnya lempeng besi tersebut telah siap untuk dilapisi dengan tembaga. Pada tahap percobaan, kami
menyiapkan dua wadah yang berisi masing-masing 0,1 N CuSO4. Wadah satu digunakan untuk pelapisan
lempeng besi 12,5 gram yang dialiri arus 100 mA, sedangkan wadah lain digunakan untuk pelapisan lempeng
besi 8,5 gram yang dialiri arus 300 mA. Lempeng besi ditempatkan pada posisi katoda dan tembaga pada
posisi anoda yang menyebabkan terbentuknya lapisan pada bagian katoda.
Tahap percobaan dilakukan dengan variable yang telah ditentukan dan tahap ini dilakukan
bersamaan. Pada saat arus mengalir, tembaga yang digunakan sebagai anoda akan mengalami oksidasi
sehingga melepaskan elektronnya. Sementara lempeng besi akan mengalami reduksi sehingga akan
menerima electron.
Tabel IV.1 Pengaruh waktu terhadap selisih berat dengan arus tetap 100 mA
t(menit) W0(gr) Wt(gr) W (gr)
4 12,5 12,6 0,1
8 12,5 12,6 0,1
12 12,5 12,8 0,3
16 12,5 12,9 0,4
20 12,5 13 0,5
IV-2
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
Hasil Percobaan dan Pembahasan
Grafik IV.1 Pengaruh waktu terhadap selisih berat dengan arus tetap 100 mA
Berdasarkan Grafik dapat dilihat bahwa selisih berat mengalami kenaikan seiring
dengan bertambahnya waktu. Hal ini sesuai dengan teori yang menyebutkan, semakin lama
waktu pelapisan maka semakin berat pula hasil pelapisan logam yang dihasilkan. Kenaikan
selisih berat terjadi pada waktu 12 menit, 16 menit, dan 20 menit. Sedangkan pada waktu 8
menit selisih berat tidak mengalami perubahan. Dalam percobaan ini larutan yang digunakan
tetap CuSO4. Pertambahan berat disebabkan oleh pengendapan Cu pada besi. Hal ini sesuai
dengan Hukum Faraday yang menyebutkan bahwa “Banyaknya zat yang dihasilkan pada
elektroda sebanding dengan jumlah arus yang dialirkan pada zat tersebut”
Tabel IV.2 Pengaruh waktu terhadap Kuat arus dengan arus tetap 100 mA
t(menit) W0(gr) Wt(gr) W (gr) I(mA)
4 12,5 12,6 0,1 74
8 12,5 12,6 0,1 76
12 12,5 12,8 0,3 80
16 12,5 12,9 0,4 82
20 12,5 13 0,5 86
ΔW (gram)
t (menit)
Waktu (menit)
0
0,1
0,2
0,3
0,4
0,5
4 8 12 16 20
IV-3
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
Hasil Percobaan dan Pembahasan
Grafik IV.2 Pengaruh waktu terhadap Kuat arus dengan arus tetap 100 mA
Berdasarkan Grafik diatas kuat arus yang didapat mengalami kenaikan disetiap
variabel waktu yaitu pada 8,12,16, dan 20 menit Semakin lama waktu pelapisan maka nilai
∆W semakin besar. Hal ini dikarenakan proses electroplating berlangsung lebih lama,
sehingga elektroda Cu teroksidasi semakin banyak untuk melapisi logam Fe. Hal ini sesuai
dengan teori yang ada bahwa massa zat (m) yang timbul berbanding lurus dengan jumlah
listrik yang mengalir (I).
Tabel IV.3 Pengaruh waktu terhadap selisih berat dengan arus tetap 300 mA
74
76
78
80
82
84
86
4 8 12 16 20
t(menit) W0(gr) Wt(gr) W (gr)
4 8,5 9,1 0,6
8 8,5 9,3 0,8
12 8,5 9,3 0,8
16 8,5 9,5 1
20 8,5 9,9 1,4
t (menit)
I (mA)
IV-4
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
Hasil Percobaan dan Pembahasan
Grafik IV.3 Pengaruh waktu terhadap selisih berat dengan arus tetap 300 mA
Berdasarkan Grafik dapat dilihat bahwa selisih berat mengalami kenaikan pada
variabel waktu 8,16, dan 20 menit. Hal ini sesuai dengan teori yang menyebutkan, semakin
lama waktu pelapisan maka semakin berat pula hasil pelapisan logam yang dihasilkan. Dalam
percobaan ini larutan yang digunakan tetap CuSO4. Dari hasil percobaan, semakin lama waktu
yang digunakan maka pertambahan berat pada besi semakin besar. Pertambahan berat
disebabkan oleh pengendapan Cu pada besi. Hal ini sesuai dengan Hukum Faraday yang
menyebutkan bahwa “Banyaknya zat yang dihasilkan pada elektroda sebanding dengan
jumlah arus yang dialirkan pada zat tersebut”
Tabel IV.4 Pengaruh waktu terhadap kuat arus dengan arus tetap 300 mA
t(menit) W0(gr) Wt(gr) W (gr) I (mA)
4 8,5 9,1 0,6 267
8 8,5 9,3 0,8 265
12 8,5 9,3 0,8 265
16 8,5 9,5 1 280
20 8,5 9,9 1,4 280
ΔW (gram)
t (menit)
Waktu (menit)
ΔW (gram)
0,6
0,8
1
1,2
1,4
4 8 12 16 20
t (menit)
IV-5
Laboratorium Kimia Fisika
Program Studi D3 Teknik Kimia
FTI-ITS
Hasil Percobaan dan Pembahasan
Grafik IV.3 Pengaruh waktu terhadap kuat arus dengan arus tetap 300 mA
Berdasarkan Grafik diatas dapat diketahui hubungan waktu dan kuat arus pada proses
elektroplating mengalami kenaikan pada waktu 16 menit dan 20 menit. Sedangkan penurunan
pada waktu 8 menit. Dalam proses pelapisan logam, lapisan menjadi kasar dan mudah
terlepas akibat ketidaksesuaiannya kondisi-kondisi sistem. Semakin lama waktu pelapisan
maka nilai ∆W semakin besar. Hal ini dikarenakan proses electroplating berlangsung lebih
lama, sehingga elektroda Cu teroksidasi semakin banyak untuk melapisi logam Fe. Hal ini
sesuai dengan teori yang ada bahwa massa zat (m) yang timbul berbanding lurus dengan
jumlah listrik yang mengalir (I).
260
265
270
275
280
4 8 12 16 20
I (mA)
t (menit)
V-1
BAB V
KESIMPULAN
1. Kondisi optimum percobaan terjadi pada variabel arus tetap 300 mA yaitu dengan
rata-rata selisih berat sebesar 0,92 gram, sedangkan kondisi minimum terjadi pada
variabel arus tetap 100 mA yaitu dengan rata-rata selisih berat sebesar 0,28 gram.
2. Semakin besar variabel arus tetap (I), maka semakin besar selisih berat (ΔW) yang
dihasilkan.
3. Selisih berat tertinggi terjadi pada proses pelapisan logam dengan variabel waktu
20 menit yaitu sebesar 1,4 gram. Sedangkan pada proses pelapisan logam dengan
variabel waktu 5 menit memiliki selisih berat terendah yaitu 0,5 gram.
4. Semakin lama proses pelapisan logam, maka lapisan yang terbentuk semakin
banyak dan permukaan menjadi semakin kasar.
v
DAFTAR PUSTAKA
Dessykimiapasca. reaksi-redoks. Diakses di (dessykimiapasca.wordpress.com/kimiaxii/
reaksi-redoks/pengertian/) pada tanggal 12 November 2013
Mgmpkimiabms. 2009. Pelapisan logam (elektroplating). Diakses di (mgmpkimiabms.
wordpress.com/2009/11/05/pelapisan-logam-elektroplating/) pada tanggal 12 November
2013
Repository. 2011. Chapter II. Diakses di (repository.usu.ac.id/bitstream/123456789/
29125/4/Chapter%20Iipdf) pada tanggal 12 November 2013.
IPIEMS. 1983. Edumedia. Surabaya: IPIEMS group
vi
DAFTAR NOTASI
Simbol Keterangan Satuan
W0 Berat Awal Gram
Wt Berat Akhir Gram
W Selisih Berat Gram
APPENDIKS
Selisih berat logam dengan arus 100 mA
t1=4 menit => W1 = Wt - W0
= 12,6 – 12,5
= 0,1 gram
t2=8 menit => W2 = Wt - W0
= 12,6 – 12,5
= 0,1 gram
t3=12 menit => W3 = Wt - W0
= 12,8 – 12,5
= 0,3 gram
t4=16 menit => W4 = Wt - W0
= 12,9 – 12,5
= 0,4 gram
t5=20 menit => W5 = Wt - W0
= 13,0 – 12,5
= 0,5 gram
Selisih berat logam dengan arus 300 mA
t1=4 menit => W1 = Wt - W0
= 9,1– 8,5
= 0,6 gram
vii
t2=8 menit => W2 = Wt - W0
= 9,3 – 8,5
= 0,8 gram
t3=12 menit => W3 = Wt - W0
= 9,3 – 8,5
= 0,8 gram
t4=16 menit => W4 = Wt - W0
= 9,5 – 8,5
= 1,0 gram
t5=20 menit => W5 = Wt - W0
= 9,9 – 8,5
= 1,4 gram