Proceso de atomización: etapasestadoexcitado
estadofundamental
vaporización
desolvatación
transporte
muestra
LLA
MA
.
.
transportedel aerosol
nebulización
vapor vapor vapormolecular atómico iónico + e –
vapor vapor vapormolecular* atómico* iónico*
3s
3p
3d4p
4s
330.2
330.3
589.0
589.6
819.5
Na
Temperaturas de llama
OXIDANTE COMBUSTIBLE TEMPERATURA ºC
aireaireaire
óxido nitrosooxígenooxígenooxígeno
gas naturalacetilenohidrógenoacetilenoacetilenoHidrógenocianógeno
1700-19002100-24002000-21002600-28003050-31502550-27004400-4600
Fracción de átomos excitados
N*/N0=Ae-∆E/kT
Elemento 2000 ºK 3000 ºK 4000ºK
CsNaCaZn
4x10–4
1x10–5
1x10–7
7x10–15
7x10–3
6x10–4
4x10–5
6x10–10
3x10–2
4x10–3
6x10–4
2x10–7
Porcentaje de ionización
Elemento 2200 ºK 2800 ºK
LiNaKCsCaSr
< 0.010.32.5
28.3< 0.01< 0.1
16.126.482.196.47.3
17.2
Filtros y monocromadores
tros
Absorción
Interferencia
De corteDe banda
Filtros
Monocromadores
Prismas
RedesDe transmisión
De reflexión
InterferenciasFISICAS Sales, ácidos, sustancias orgánicas
cambios en el transporte, temperatura, etc.(mismas propiedades físicas en muestra y patrones)
*Formación de óxidos, hidróxidos, etc térmicamente establesQUIMICAS
*Aniones que puedan formar sales refractarias con el analito
Ca(NO3)2.H2O Ca(NO3)2+H2O
CaO + NO + H2O +SiO32- CaO(SiO2)x
(refractario)
Ca + otros productosCa+otros productos
La, Sr, Mg SrO(SiO2)x
*Interferencias de ionización
Interferencias espectrales* Superposición de líneas de resonancia
Al: 308.215 nm V: 308.211 nm
* Bandas de absorción anchas
5500 5520 5540 5560 5580λ , Å
linea de resonancia del Ba
.
Corrección del fondo con lámpara de deuterio
AA
FLCH LD
AAF F F
LDLCHLámparade cátodo hueco
Lámpara de deuterio
.
Corrección del fondo: efecto Zeeman
I
λ
I
λA B
σ+
π
σ–
ausencia de campo magnético presencia de campo magnético
Cámara de grafito
gas ventana H O2
contacto eléccontacto eléctrico
muestra tubo de grafito
haz deradiación
H O2
Cámara de grafito: programa de temperaturas
0
500
1000
1500
2000
2500
secado
mineralización
atomización
tiempo
.
.
ºC
Límites de detección (µg/L)
Elemento horno llama llama/horno
AgAlBaCdCuFeMnPbZn
0.020.10.4
0.0080.10.1
0.040.060.1
1.545150.81.55
1.5151.5
7545038
100155038
25015