Tahap pertama adalah pembentukan natrium silikat.

Reaksi yang menghasilkan natrium silikat adalah sebagai berikut ini: SiO2 + 2H2O H4SiO4

H4SiO4 + 2NaOH Na2SiO3 + 3H2O

Natrium hidroksidanya jika dilarutkan dalam air akan mengalami penguraian sempurna sehingga membentuk ion Na+ dan ion OH- . Semakin tinggi suhu maka kelarutan silica amorf dalam air juga akan meningkat dan kecepatan reaksinya juga akan meningkat.

Sampel lumpur panas dieng diambil sejumlah 10 gram. Sampel ini kemudian dicampurkan dengan natrium hidroksida 1 M dalam waterbath menggunakan labu leher tiga yang dilengkapi dengan pendingin balik, thermometer dan pengaduk merkuri. Proses reaksi dijalankan dalam variasi suhu 70,80,90 derajat celcius selama 90 menit. Cara ini kemudian diulangi dengan variasi waktu 120 dan 150 menit. Hasil reaksi ini kemudian disaring menggunakan kertas saring.

Tahap kedua adalah pembentukan silica gel.

Larutan natrium silica ditambah asam akan membentuk silica gel. Reaksi pembentukan silica gel adalah sebagai berikut ini :

Na2SiO3 + 2HCl 2 NaCl + H2O + SiO2

Penambahan asam adalah untuk mengurangi SiO2 yang terjerap dalam matrik yang didapat. Dalam pH 3-5 laju pembentukan silica akan naik dan mengalami titik maksimal di pH 5. Silika dalam bentuk sol akan stabil di pH 8-10. Dibawah pH 7 silika dalam bentuk sol tidak akan stabil untuk membentuk silica gel. Di larutan yang encer penambahan asam yng dikontrol, pembentukan silica sol akan lebih tinggi daripada silica gel.

Sol yang terbentuk dari reaksi dititrasi dengan menggunakan HCl 4 M. proses titrasi dihentikan setelah terbentuk gel yang halus. Gel kemudian disaring dan dicuci menggunakan aquadest hangat. Proses pencucian dilakukan berulang kali untuk menghilangkan natrium klorida.

Tahap ketiga adalah pengeringan silica gel.

Pemanasan silica dilakukan pada 150 derajat Celsius. Tujuannya adalah untuk menghilangkan air sehingga diperoleh silica yang kering.

Silika gel dikeringkan di dalam oven dengan suhu 150 derajat Celsius selama 4 jam. Silica gel ini kemudian digiling dengan mortar. Hasilnya kemudian ditimbang untuk melihat % yield yang didapatkan

The first stage is the formation of sodium silicate.

Reaction that produces sodium silicate is as follows:

SiO2 + 2H2O H4SiO4

H4SiO4 + 2NaOH Na2SiO3 + 3H2O

When dissolved in water the sodium hydroxide makes perfect decomposition to form Na + ions and OH- ions. The higher the temperature, the solubility of amorphous silica in water will also increase and the speed of the reaction will also increase.

Dieng mud samples were taken some 10 grams. The sample is then mixed with 1 M sodium hydroxide in a water bath using a three-neck flask equipped with a cooling, mercury thermometer, and stirrer. Reaction process is run in a temperature variation 70, 80, 90 degrees Celsius for 90 minutes. This method is then repeated with the time variation of 120 and 150 minutes. The reaction product is then filtered using filter paper.

The second stage is the formation of silica gel.

Acid plus sodium silica will form a silica gel.

Silica gel-forming reaction is as follows:

Na2SiO3 + 2HCl 2 NaCl + H2O + SiO2

The addition of acid is to reduce the adsorbed SiO2 matrix obtained in. pH 3-5 in silica formation rate will go up and experience the maximum point at pH 5. Silica sol in the form will be stable at pH 8-10. Below pH 7 in the form of silica sol will not be stable to form a silica gel. In a dilute solution of acid controlled addition, formation of silica sol will be higher than silica gel.

Sol that formed from the reaction titrated using HCl 4 M. titration process is stopped after a soft gel form. Gel was then filtered and washed with warm distilled water. Repeated washing process is needed to remove sodium chloride.

The third stage is the drying of silica gel.

Heating silica done at 150 degrees Celsius. The goal is to eliminate the water in order to obtain dry silica.

Silica gel is dried in an oven with a temperature of 150 degrees Celsius for 4 hours. Silica gel is then ground with a mortar. The results are then weighed to see the% yield obtained