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KAEL 회사소개서. KAEL. 894, Tamnip-dong, Yuseong-gu, Daejeon, 305-510, Korea Tel:(042)931-6287~9 Fax: (042)931-9190 http://www.kael.co.kr. We provide The Hitechnology & Future Environment. Contents. We provide The Hitechnology & Future Environment. Ⅰ. 회사 개요 Ⅱ. 사업 영역 Ⅲ. 제품 구성 - 기초핵심소재 - PowerPoint PPT Presentation
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KAEL 회사소개서We provide The Hitechnology & Future Environment
894, Tamnip-dong, Yuseong-gu, Daejeon, 305-510, KoreaTel:(042)931-6287~9 Fax:(042)931-9190http://www.kael.co.kr
KAEL
Ⅰ. 회사 개요
Ⅱ. 사업 영역
Ⅲ. 제품 구성
- 기초핵심소재
- 반도체 /디스플레이 사업
- 장치 및 시스템분야
ContentsWe provide The Hitechnology & Future Environment
Head Office R&D Institute
We provide The Hitechnology & Future Environment
www.kael.co.krConfidential3
Ⅰ. 회사 개요
㈜ ㈜ 카 엘카 엘 (KAEL Co., Ltd.) (KAEL Co., Ltd.)
설 립 일 1998 년 3 월 10 일 ( 원자력연구소 연구원 창업회사 )
사업영역
소재사업 Coating Resin, Catalyst
반도체 /디스플레이 공정클린사업 : CA Filter, AL FilterDry, Gas Scrubber/Resin, Ion Exchange Scrubber, F2 Trap 등
장치 /시스템 환경사업 : Total Off-Gas Control System, 대기오염 /악취방지설비 특수환경오염제어기 등
자 본 금 3,566 백만원
자 산 33,487 백만원
매 출 액 17,246 백만원 (2008 년 기준 )
종업원수 87 명 ( 연구개발인력 20%, 18 명 )
본 사 대전시 유성구 탑립동 894 번지 대덕테크노밸리내 대지 9,256.00 ㎡ (2,800평 )
부설연구소 대전시 대덕구 신일동 1690-2 대지 3,970 ㎡ (1,200 평 )
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회사 개요
▷ 1998 년 주식회사 카엘 설립
( 원자력연구소 연구원 창업회사 )
▷ 1999 년 NH3/O3 제거용 CA Filter 국산화
▷ 2000 년 공장 및 기업부설연구소 준공
▷ 2001 년 반도체공정용 CA Filter 적용
▷ 2003 년 CA Filter 삼성반도체 납품
▷ 2005 년 KOSDAQ 상장
▷ 2005 년 디스플레이 공정용 CA Filter 납품
▷ 2006 년 CA Filter 중국 / 싱가폴 수출
▷ 2007 년 신개념 Filter Media 개발 및
미주시장 진출
태국시장 (SEIKO) 진출
▷ 2009 년 세계 4 대 필터 제조사 Media 공급 계약
카엘 연혁카엘 연혁
▷ 1999 년 유망중소기업지정 (KAERI/ 대전시 )
▷ 1999 년 ISO 9001:2000 인증
▷ 2002 년 CA Filter TEL 인증
▷ 2003 년 기술혁신형 중소기업 (INNO-BIZ) 선정
▷ 2003 년 기술혁신상 금상수상 ( 국무총리상 )
▷ 2003 년 CA Filter 삼성 Qual 인증
▷ 2005 년 우수납세자 국세청장상 수상
▷ 2005 년 벤처기업 재지정 ( 신기술기업 )
▷ 2006 년 ISO 14001:2004 ( 환경경영시스템 ) 인증
▷ 2007 년 수출유망중소기업 인증
첨단기술기업지정 ( 과기부 )
OHSAS 18000 인증
▷ 2008 년 녹색에너지대상 수상 (PAS)
카엘 주요 인증카엘 주요 인증 //수상 경력수상 경력
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연구개발 현황
CA Filter 개발 (Carbon Type, Fabric Type, Pleat Type)
반도체 유해가스 제거용 Coating Resin 개발1999 년
2000 년
VSA 방식을 이용한 VOC 회수 장치 개발
O3 CA Filter 개발
NH3 CA Filter 개발 (Carbon Type)
2001 년 이온교환섬유와 이온교환수지를 이용한 Media 제조와 이를 응용한 Wet Scrubber 장치 개발
NH3 CA Filter 개발 ( 이온교환부직포 Type, 이온교환수지 Type)
년 도 개 발 명
Ion Exchange Scrubber 와 Coating Resin 을 이용한 소각로 유해가스 제거기술 개발
CO Filter 개발
Hybrid Filter(O3+NOx) 개발
NF3, ClF3, AsH3, PH3, BF3 제거용 Coating Resin 개발
2002 년
특수환경오염제어기 개발 ( 산업용 , 화장실용 , RI 용 , 야채 /화훼용 )
Hybrid Filter(NH3+SOx+NMP+Amine+NOx) 개발 Cyplus CA Filter 개발 ( 삼성반도체와 공동 특허취득 ) Ion Exchange Scrubber 개발
2003 년
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연구개발 현황
Acid CA Filter 개발 ( HCl, Cl2, HF, SOX, NOX, 기타 부식성 Gas) Microwave Dryer 개발 Organic CA Filter 개발 (Display 공정 적용 )
2004 년
년 도 개 발 명
2005 년
PFC Scrubber 시스템 개발 , CO/CO₂ 흡착제 개발 Coating Resin 개발 (HCl, BCl₂ 등 ) Hybrid CA Filter 개발 (NH₃/ SOX) 성형활성탄 개발 대덕연구개발특구 기능성 나노기공소재 개발 및 사업화기업 선정
2006 년 액상촉매제를 이용한 VOCs 저감설비 기술도입 NGM (New Generation Media) Filter 개발 국산개발 군용 Coating Resin (MIL-C-1372D 규격 ) 성능시험 인증 (GB 시험 제외 )
2007 년 Tri-Plus Filter 개발 (Photo ArF Scanner 장비용 유기물 필터 ) AOCS System 개발 ( 산배기가스 처리용 2 차 Scrubber) PAS System 개발 ( 냉각탑 백연제거 시스템 ) V-Bank Type 필터개발
2008 년 WFVOC 개발 ( 유기물제거 시스템 ) N2O 제거 촉매기술도입 및 환경부 환경기술개발사업 선정
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Ⅱ. 사업 영역
사 업 영 역 사업부문별 매출구성
응용사업
반도체 /디스플레이 공정클린화 장치사업분야
특수가스제거
확장사업
산업환경개선 대기오염방지사업 실내공기질 개선
수처리
국방사업
핵심소재
Coating Resin Catalyst
□ 특 허 보 유 현 황 - 복합흡착제를 사용하여 반도체 제조공정에서 발생되는 배기가스를 처리하는 처리방법 - 케미컬 필터 미디엄 , 케미컬필터 및 이의제조 방법 등…
특허 64 건 , 실용신안 11 건 보유
80
Equipment/System
Gas Scrubber
( 단위 :억 )CA Filter
2003 2004 2005 2006 2007 2008
87
17
5 8
110
15
15
3
80
21
2
14
27
3
15 10
7
Export
45
109 103
138 129 117
14
30
9
2
172
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기술 및 영업 Network
사업분야 주요 Network
연구개발
반도체 사업
디스플레이 사업
환경 및 특수사업
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Ⅲ. 제품 구성
사 업 구 분 적용 주요제품
기초 핵심소재
반도체 /
디스플레이 사업
CA Filter ( NH3, O3, Organic, ACID, SO2, Amine, SOx, NOx, NMP... )
CYPLUS-1000 Series ( FFU 용 )/ CYPLUS-2000 Series ( 순환기용 )
CYPLUS-3000 Series ( 외조기용 )/ CYPLUS-5000 Series ( 장비용 )
CYPLUS-6000 System A-Line Filter
ALPLUS-1000, 2000, 3000 Serise Gas Scrubber/Resin, Ion Exchange Scrubber
장치 및
시스템분야
대기오염방지시스템 (VOC 회수 /제거설비 , 악취제거설비 , De-NOx 설비 ) 특수가스제거장치 (Gas Filtering System, 특수환경오염제어기 ) Total Off-Gas Control System
PAS ( 백연제거시스템 ) , KWRF( 산배기처리시스템 )
군용 Coating Resin , 군용 방독면 정화통 가스여과기 ( 함상용 , 전차용 )
Coating Resin (Impregnated Active Carbon, Inorganic Adsorbant, Catalyst)
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기초 핵심 소재 - Coating Resin
성형 Coating Resin Cl2 무기흡착제 HCl 무기흡착제 PFC 분해촉매
( 주요 용도 및 적용처 )
반도체 /디스플레이 클린룸 화학오염물질 제거 부식성 가스 제거 방사성관리구역 방사성가스 제거 소각로 다이옥신 제거 군용 독가스 제거 CO Gas 제거 악취 및 VOCs 제거
Resin 성형 공정
기초 소재 자체 개발 양산 – 맞춤형 소재
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반도체 및 디스플레이 산업용 - 주요 제품
크린룸 &장비유지 CA FilterPleat TypeTray Type
V-Bed TypeRound TypeV-bank Type
생산공정상 불량률 증가의 직접적인 원인이 되는 암모니아 , 오존 , 유기물 등을 제거
구 분 주요 기능 경쟁사 대비 비교우위
기술적 우위 저 압력손실 None Out-gassing Long Life Time
원가 및가격경쟁력
흡착제 자체 생산 원부자재 자체 가공
납기단축 및 A/S
자체 원천기술보유분석 장비 /능력 보유
반도체 및 디스플레이 관련 소재 , 장비의 국산화
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CA Filter ?
V-Bank
V-BED PLEAT
Round
TRAY
HYBRID
1960 1970 1980 1990 2000 2010 2020
오염
원의
영향
시대별 반도체 오염원 및 제거기술
Metal Contaminant(Wet Cleaning Tech)
Air Particle Contaminant( 밀폐공간유지 /HEPA Filter)
Chemical Gases(CA Filter, 수입 )
Chemical Gases (Mix / organic)(CA Filter 국산화 )
Oxygen etc
[ 공기청정협회 공기청정기술지 06/12]
주된 오염원 및 제거대상 제거기술 및 방법
CA Filter Type
고 청정공간 유지 ( 화학오염원 ) 를 통한 생산성향상의 필수품
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CA Filter ?
Type KAEL’s ModelTarget Gases
MA MB MC MD Ozone VOCs
CYPLUS
CYPLUS-1000 Series o o
CYPLUS-1000 Series o o o
CYPLUS-1000 Series o o o o o
PLEATCYPLUS-1000 Series o o
CYPLUS-2000 Series o o o o
TRAY CYPLUS-3000 Series o o o o o o
PANEL CYPLUS-5000 Series o o o o o o
V-BED CYPLUS-5000 Series o o o o o o
MA : Molecular Acids (SOx, NOx, HCl, Cl2, HF, H2S…,), MB : Molecular Bases (NH3, Amine, NMP..,)
MC : Molecular Condensables (MW.120, BP.150 Organic material), MD : Dopants (Arsine, Boric Acid, Phosphorus…,)℃
Ozone : O3 , VOCs : Volatile organic compounds)
극 저농도 분자상 물질 제어 기술
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Application for Semiconductor
⑤
① ②
③ ④
③ ④
⑥
① CYPLUS-5300 Series
(MA, MB, MC, MD, VOCs)
② ALPLUS-5100 Series
(Ozone, MA)
③ ALPLUS-1000, 2000 Series
( MA, MB, VOCs)
PHOTO ZONE DIFFUSION/CVD ZONE ④ ALPLUS-1000, 2000 Series
(Ozone, MA, VOCs)
⑤ CYPLUS-3000 Series
(MA, MB, Ozone)
⑥ CYPLUS-3000 Series
(MA, MB, Ozone)⑦ CYPLUS-5200 Series
(MC, VOCs)
⑦
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Application for Display
⑤
① ②
③ ④
③ ④
⑥
①② CYPLUS-5000 Series
(MB, MC, VOCs)
③ ALPLUS-1000, 2000 Series
( MB, MC, VOCs)
④ ALPLUS-1000, 2000 Series
(MB, MC, VOCs)
⑤⑥ CYPLUS-6000 SYSTEM
(MA, MB, MC, VOCs)
TFT ZONE COLOR FILTER ZONE
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장치 및 시스템 분야 – 주요 제품
핵심기술 /소재의 장치화 및 시스템화
배기가스제어Gas Scrubber
Dry Scr' 이온교환 Scr' 액상촉매 Scr'
소각로 다이옥신 제거이동식 유해가스 제거기 부식가스 제거
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Dry Scrubber Resin
Process Film GasKAEL
Model No. 비 고
EtchMetal Al Cl2, BCl3, SF6, C2F6 KSC-01 Dry
Poly W Cl2, HBr, CF4, CHF3 KSC-02 Dry
Ion Implant DOPE AsH3, PH3, BF3 KSA-01 Dry
CVD
BPSG TEOS, TMP, TMB, NF3, C2F6 KST-01 Dry
Core Oxide TEOS, TMP, NF3, C2F6 KST-01 Dry
W-CVD SiH4, WF6, NF3 KSS-01 Dry
Poly Cide DCS, NH3 KSD-01 Dry
IMO,ARC,HDP 등 SiH4, PH3, WF6, HCl, NF3 KSN-01 Dry
ChamberCleaning
ClF3 KSCC-01 Dry
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장치 및 시스템 분야 – 주요 제품
핵심기술 /소재의 장치화 및 시스템화
양압 설비 &공기정화장치
첨착활성탄 및 특수수지를 사용한 CA Filter 도입 제거효율이 높고 교환주기 연장가능 화학흡착으로 가스 포집 기술
방사성가스제거RI Filter
연구소 및 병원 방사선관리구역의 방사성가스 및 분진을 기준치 이하로 제어하는 필터 및 이를 장착한 장치
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장치 및 시스템 분야 – 주요 제품
악취 제거 설비
핵심기술 /소재의 장치화 및 시스템화
한수원 MEMC Korea
대전 산업단지 폐수장 LG HIC SK 에너지 POSCO
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장치 및 시스템 분야 – 주요 제품
핵심기술 /소재의 장치화 및 시스템화
VOC 회수 및 제거 설비
( 주 )SK호남석유화학
PAS 설치 전PAS 설치 후
백연제거시스템 PAS
(Plume Abatement
System) (Samsung, POSCO 사
14Set 공사 완료 )
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www.kael.co.krConfidential
Confidential
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“ 삶의 質 향상 요구와 관련법규의 강화에 따른 환경제품의 국산화”
특수가스제거용 필터
방사성
가스제거
필터
방 독 면정 화 통
방사성관리구역 및 원자력관련시설에서 발생하는 방사성가스 및 각종 유해가스를 제거원자력발전소 , 동위원소 취급 실험실의 방사성
가스 제거병원 등 방사선관리구역의 배기설비에 설치
군용 방독면에 장착하는 화생방 방호용화재등 긴급 대피가 요구되는 화재대피용 대중화방독면유해가스 및 열악한 작업현장의 작업자 보호용
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www.kael.co.krConfidential22
고객 맞춤형 대기환경 제품 개발 회사
" 독보적인 환경오염제어기술로
무결점 클린환경을
카엘이 만들어갑니다 . "
대전광역시 유성구 탑립동 대덕테크노밸리 I3-8-4BL Tel : 042-931-6287~9 FAX : 042-931-9190
대전광역시 대덕구 신일동 1690-2 Tel : 042-935-3046~8 Fax : 042-935-3049