1

2

3

4

5

6

7

8

9

10

11

12

Câu 12:Mục đích của quá trình gia công bề mặt trước khi mạ? quá trình tẩy rỉ thường dùng các loại dung dịch nào? Đặc điểm của các dung dịch?

Mục đích của quá trình gia công bề mặt trước khi mạ: Gia công cơ học là quá trình giúp cho bề mặt vật mạ có độ đồng đều và độ nhẵn cao,

giúp cho lớp mạ bám chắc và đẹp. Tẩy dầu mỡ: Bề mặt kim loại sau nhiều công đoạn sản xuất cơ khí, thường dính dầu

mỡ, dù rất mỏng cũng đủ để làm cho bề mặt trở nên kị nước, không tiếp xúc được với dung dịch tẩy, dung dịch mạ.

Tẩy gỉ: bề mặt kim loại nền thường phủ một lớp oxit dày, gọi là gỉ, làm cho kim loai không tiếp xúc được với dung dịch mạ.

Tẩy bóng điện hóa cho độ bóng cao hơn gia công cơ học. lớp mạ trên nó gắn bám tốt, tinh thể nhỏ, ít lỗ thủng và tạo ra tính chất quang học đặc biệt

Tẩy nhẹ hay còn gọi là hoạt hóa bề mặt, nhằm lấy đi lớp oxit rất mỏng, không nhìn thấy được, được hình thành trong quá trình gia công ngay trước khi mạ. khi tẩy nhẹ xong, cấu trúc tinh thể của nền bị lộ ra, độ gắn bám sẽ tăng lên.

Quá trình tẩy rỉ thường dùng các loại dung dịch, đặc điểm: Bề mặt kim loại đen dùng HCl và H2SO4 với nồng độ khác nhau: Bề mặt kim loại đen thường phủ lớp oxit dày gồm FeO, Fe2O3, Fe3O4 và các điroxit

của sắt hai sắt ba. Tẩy gỉ sắt thường dùng dung dịch axit HCl, H2SO4 hoặc hỗn hợp của chúng. Khi tẩy thường đồng thời sảy ra hai quá trình hòa tan oxit và hòa tan sắt nền. HCl hòa tan oxit là chính. H2SO4 hòa tan sắt nền là chính và cho khí H2 thoát ra làm bong màng oxit.\

Các pư sảy ra khi tẩy gỉ bằng HCl:

Tẩy bằng HCl nhanh hơn, cho bề mặt trắng hơn. Nồng độ tốt nhất là 150 – 200g/l và tẩy dưới nhiệt độ 4000C. nông độ và nhiệt độ cao hơn sẽ có mùi khó chịu và sắt nền ăn mòn nhiều hơn.

Tẩy bằng H2SO4 sẽ nhanh nếu tăng nhiệt độ dung dịch. Sau tẩy phải làm sạch mùn đen trên bề mặt vật tẩy. tốt nhất dùng nồng độ 80 – 120g/l ở nhiệt độ 50 – 7000C.

Để hạn chế hòa tan kim loại nền trong tẩy, ngày nay người ta thường dùng thêm các phụ gia có bản chất là các chất ức chế.

Kim loại màu: dung ax hoặc dung dịch kiềm phù hợp:Al và hợp kim Al tẩy bằng NaOH hoặc hỗn hợp HF và HNO3.Zn và Cd tẩy băng HCl hoặc H2SO4 (50 – 200g/l).pb bằng HNO3 (50 – 100g/l)Sn bằng HCl (50 – 100g/l)

13

14

15

16

17

18

Nguyên nhân: Do hóa chất, nước không đủ sạch. Do anot khi hòa tan tạo mùn. Do ăn mòn thiết bị. Do vật mạ đem vào. Do pH không đúng. Khắc phục: Ngăn chặn ngay từ đầu. Nếu là chc thì dùng KmnO4, H2O2 để oxi hóa nó hoặc dùng than hoạt tính hấp phụ. Có cation lạ có điện tích dương hơn so với cation kim loại mạ thì dùng dòng điện để

khử hoặc cho một kim loại có điện thế âm hơc vào để loại boe hoặc điều chỉnh pH giảm.

Với các hc không tan phải loại khỏi dung dịch.

19

14. Đặc điểm lớp mạ Ni? Đặc điểm quá trình mạ Ni? Trong dung dịch mạ Ni cơ bản có những thành phần nào, tác dụng và ảnh hưởng tới lớp mạ?

20

15. Đặc điểm lớp mạ crôm? Đặc điểm quá trình mạ crôm? Trong dung dịch mạ crôm sunfat có thành phần nào tác dụng của chúng? Trình bày cơ chế phóng điện của crom với xúc tác là SO4

2- .

21

22