特長:・サブ・ウェーブレングスでの高いパターン精度Calibreの最先端技術［High-NA ベクター・モデル、TCCcalcおよび新しいプロセス・モデル（VT5）］は、精度が要求される微細パターンを正確に描画する事ができます。・TAT(Turn-Around-Time)の短縮最先端の階層データベース・エンジンにより、データの増加を最小限に抑えます。マルチスレッド・パラレル・プロセスが実行時間をさらに大幅に短縮します。・1つのルールによる一括処理レイアウト検証とマスクパターンの補正が、Calibreに完全に統合されているので、次世代技術のフローへのアップグレードが容易になります。・生産コストの削減「マスク・フレンドリ」なOPCとPSM出力により、マスク作成コストを大幅に削減し、書き出し時間全体を短縮します。・フレキシブルなOPC処理の選択ルールベースOPC（計算量を最小化）とモデルベースOPCの選択肢を提供することで、目的に応じたOPCが、たとえPSMと一緒であっても適用できます。・より高速なチップ完全なPSMソリューションで、より高速で小型の線幅ゲートのレイアウトを可能にします。

Resolution Enhancement Technology

CalibreRETツール群は、180nmから65nm、またそれ以降にお

いて、パターンの精度や動作速度、歩留まりを向上させます。

Calibreファミリにおいて、サブ・ウェーブレングスのパターン製造に

対応したツールであるCalibre OPCpro、Calibre ORCおよび

Calibre PSMgateは、完璧なレイアウト検証とマニュファクチャビリ

ティをもたらす業界初のソリューションです。ICレイアウト検証の業界

スタンダードとなったCalibre DRCとCalibre LVSにOPC（光近接、

プロセス補正）、PSM（位相シフトマスク）そしてSB（スキャッタリング・

バー）が統合され、パタ－ン精度の向上、大幅なTATの短縮、そして

優れた歩留まり向上をもたらします。その上、デザインがたとえ1億、も

しくはそれ以上のトランジスタを含んでいたとしても、また、複数のレイ

ヤに対するOPCやPSM処理が必要であっても、わずか一晩で補正と

検証を終了させる性能を備えています。

高速な検証で生産効率を向上Calibreファミリは、業界ナンバーワンの検証とパターン補正機能を

含むCalibre独自のアーキテクチャによる環境を提供します。ツールセ

ット（フルチップ対応、バッチツール）には以下の利点があります。

・単一ファミリ内のツールを使うことにより、階層を保ったまま、データ

ベースのインポート／エクスポートに時間をとられることなく、レイア

ウト後の各処理を一度の高速な実行で処理することができます。こ

の一度の実行でレイヤの抽出、ブーリアン処理、DRC、ミックスド・ル

ール／モデル・ベースOPC、PSM、位相チェック、ORC、LVS等が

可能です。

・CalibreのSVRF(スタンダード・ベリフィケーション・ルール・フォーマ

ット)コマンド言語環境は、レイアウト後のすべてのOPC/PSMプロセ

スを、レイアウト検証とまったく同じ環境で処理することを可能にしま

す。これによりツールのセットアップとフローの構築が容易になります。

・すべての処理に対する一つの強力なICデータベース・エンジンによ

り、他のツールより大幅にTATを短縮しながら、元のデザインの保

持と処理に伴うデータの肥大を最小に押さえます。

・OPC/PSM/SBが、DSM(ディープ・サブ・ミクロン)の検証において

業界標準となっているCalibreに統合されています。

Calibre DRC(Design Rule Check)

Calibre DRCはデザイン・ルール・チェックと呼ばれる幾何学的な

ルール・チェックだけでなく、サブ・ウェーブレングスで要求される多

種多様な機能を搭載しています。

Calibre DRCの最先端のCalibre ICデータベース処理エンジン

は、ただ一度の実行で多岐に渡る処理を可能にします。これらの処

理には、ルール・ベースOPC、プラナリゼーション(パターン敷詰め)、

アンテナ・チェック、マルチスレッド・データ処理、設計に依存しない

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D A T A S H E E T

図１：Calibreは、簡単なプロセス・モデリングとツール・セットアップにより、生産に適した精度とTATを提供します。図1のCalibre WORKbenchスクリーンには、モデルとグラフ作成ツールが表示されています。高精度のCalibreシミュレーション（右下）は、SEM（走査型電子顕微鏡）のウェハ・イメージ像（左下）と一致しています。

Calibre RET Product Familyディープ・サブミクロン対応製造支援ツール

階層処理などが含まれます。さらに、フルチップ・シミュレーションさ

れたシリコンの輪郭を出力し、Calibre PRINTimage上でDRCチェ

ックが行える機能が、補正後の処理のひとつとして新しく加えられま

した。新しいCalibreツール群でも、デザインに依存せず、データの

肥大を最小に抑え、さらにソフトウェアの品質を管理するという、

Calibreファミリすべての基本になっている特長が活かされています。

DRCエンジンとそのコマンド言語（SVRF等）は統一されたモジュ－

ルで管理され、実行時には、すべてのファミリに共通する環境で使

用できます。

Calibre TDopc(Table Driven OPC)

130nmプロセス以降のルールベースOPCはさらに補正条件が

複雑になり、またデザイン規模も大きくなって、よりルールの

くみ上げの単純化、処理性能の向上が求められています。そこ

でCalibreの階層技術を駆使し、さらにルールベースOPCの

TATの短縮を実現するTDOPCを活用することで、先端プロセ

スに要求される厳しいニーズを満たすことができます。

Calibre ORC（Optical & Process Rule Checking）

Calibre ORCはEPE（エッジ・プレイスメント・エラー）と呼ばれる

IC製造における「プリンタビリティ(結像可能性)」をフルチップ上でバ

ッチ処理することができます。Calibre ORCはプロセスの実験モデ

ルにプロセスのマスク／オプティカル／レジスト／エッチなどをキャリ

ブレートしたモデルを使って、デザイン中の特長的な構造（例：ライン

エンド、コーナー、ユーザ定義の構造）のウェハ上での位置をシミュ

レートします。

これらの構造のEPEがユーザの定めた許容範囲を外れた場合、

ソフトウェアは統計を含むレポート出力だけではなく、GDS2の出力

層にエッジを覆う「エラー･ボックス」を出力します。この機能は、

attenuated PSM、サイドローブ検出、strong PSMなどに活用でき

ます。結果の表示やデバッグは、Calibre RVEを通じて一般的なレ

イアウト・エディタ上で行うことができます。

Calibre RVE(Results Viewing Environment)

Calibre RVEは（DRCとLVSだけでなく）ORCによるエラー・チェ

ックの結果を容易にレビューしたり、一般的なレイアウト・エディタ上

で表示やデバッグを可能にする環境を提供します。エラー結果をク

リックするだけで、お好みのエディタで対応するレイアウトを見ること

ができます。

Calibre PRINTimage

Calibre PRINTimageは、チップ全体に対するバッチ処理の結果

として、シミュレーション後のウェハ形状を出力し、これらの形状に対

するDRCチェック、いわゆる「シリコンDRC」の為のデータを提供しま

す。シミュレーションされたパターンの形状は、新しいGDS2の出力

レイヤに出力されます。

Calibre OPCpro(Optical & Process Correction for Production)

Calibre OPCproは入力レイアウトのチップ全体に対するバッチ処

理による補正機能を提供し、歩留まりとプロセスの自由度を向上さ

せます。Calibre OPCproはDSM製造プロセス固有のリソグラフィの

歪みを考慮し、あらかじめレイアウトを補正します。あらゆるミックス・

ルールやシミュレーション・ベースの補正が使用可能です。Calibre

ORCの機能を含み、その補正にはORCと同じモデルを使用します。

Calibre OPCproは、最も一般的な、ゲート用のattenuatedや

alternating PSMといった位相シフト・レイアウトに対する補正機能

をフルに備えています。

図２：解像度強化技術（OPC、PSM、SB）とDSMレイアウト検証の業界標準ツールが統合されたCalbireファミリ。Calibreは、優れたTATを生み出す独自の

フルチップ・バッチ・ツール・システムを提供します。

図３：PSMでのOPC結果

A=狭いゲートのオリジナルのレイアウト

B＝オリジナルの修正されていないレイアウトのPRINTimageの出力像

C =区分MEFを含むPSMとマルチ・レイヤOPC処理後のPRINTimage出力像

Calibre PSMgate(Phase Shift Mask Assignment for Gates)

Calibre PSMgateはバッチ処理によってチップ全体に対して位相

を割当てる機能を備えており、既存の製造装置を用いて、サブ・ウェ

ーブレングスの線幅が必要となるパターンのリソグラフィの歩留まりと

チップ速度を向上させます。

Calibre PSMgateは、OPCproやSVRFと併せて活用することに

より、ウェーブレングスよりも狭小なゲート・パターンを生成することを

可能にします。Calibre PSMgateの結果は、Calibre OPCproのモ

デル･ベースによって、位相変化やライン端で見つかる位相の歪みを

自動的に補正することができます。

・すべての実用的な技術がサポートされます。１回/２回の露光や２/

３/４位相方式など、様 な々タイプのPSM技術に対して、割当ても検

証も可能です。現在、１/２波長サイズのゲートが主に使われていま

すが、割当てのアルゴリズムは他のレイヤや構造にも適用できます。

・Calibreの強力なレイアウト処理エンジンにより、レイヤの派生、ブー

リアン処理、そしてPSMゲートのフローに重要な、位相の衝突の

チェックが可能です。

PSMの今後の製品計画には、ローカル・ゲート・インターコネクト・

ソリューションだけでなく、ゲートでない構造のレイヤ用といった汎

用的なPSM（単一露光、複数位相など）も含まれています。

Calibre OPCsbar（SB付加）

スキャッタリング・バーはレチクル上のクロム端近くに配置される、未

解像の棒状のクロムです。SBとASB（アンチ・スキャッタリング・バー）

は、孤立、または半孤立したラインの空間像の傾斜を、高密度に組み

合わされたライン並に改善可能にします。これにより、それぞれのパタ

ーンでの焦点深度を適度に保ち、収差とCD分散を低減させます。

Calibreは階層を保ちながら、かつ複雑なルール生成の必要もなく

SBの付加を高速に実現します。

正確なツール・セットアップのためのCalibreソリューションCalibre WORKbench

Calibre WORKbenchは、リソグラフィ技術者から、技術開発者

およびCAD技術者、最先端のセル設計者まで幅広く使用できるツー

ルです。Calibre WORKbenchは、正確なプロセス・モデルや実運

用向けにサインオフするためのツール・セットアップ・ファイルを作成す

るインタラクティブな環境を提供します。Calibre WORKbenchは、

モデルやセットアップ・ファイルの出力をテストし、ビジュアル化するた

めのテストジョブの実行ばかりでなく、シリコン測長用のテストパター

ンを作成できます。また、使いやすいインタラクティブなリソグラフィ・

シミュレーションとビジュアル化機能を備えた高速、かつ大規模対応

のレイアウト・ビューアが含まれています。

Calibre WORKbenchは、RVEを通して一般的なレイアウト・エデ

ィタと密接に統合され、最先端のセル・ライブラリ設計にも使うことが

できます。ツール・セットアップ・ファイルを作成する際に、他のバッチ

製品のライセンスに干渉してしまうことが防げます。

Calibre WORKbenchの主な特長は次のとおりです。

・ModelCenterモジュールにより、テストパターン・データから最適のプ

ロセス・モデルを簡単に作成。

・High-NA ベクター・モデルをサポートする TCCcalc

・複数のタイプの光源に対応（tophat,annular,quadruple,QUASAR,

dipole,custom...）

・リソグラフィ・シミュレータとエディタに統合された超高速のレイアウト・

ビューア

・正確な非線形シミュレーションと補正のための、バリアブル・スレッ

ショルド・モデル(VT5,VTR-E)/コンスタント・スレッショルド・

モデル(CTR)の作成

・レイアウトに対する光強度マップ、レジスト現像強度マップ、フラグメン

ト・サイト、光強度断面グラフ、複数の等高線等のシミュレーション

・テスト用に選択された小さな範囲でのバッチ・ツールの実行

・モデルの自動最適化を行なう、Calibre WORKbench Model

Flow

Calibre LITHOview

Calibre LITHOviewはCailbre WORKbenchのプロセス・モ

デル作成やOPCの機能を除いたパッケージで、補正ルールの検

証やシュミレーションが可能です。

Calibreの階層CalibreはEDAの歴史の中で最も成功した製品の一つです。その急

激な成長は、主として、DSM専用に作られた強力なデータベース・エンジ

ンによるものです。Hierarchical Injection、Selectrive Promotion、Bin

Injectionといった最先端のIC関連処理のヒューリスティックにより、優れ

たICプロセスのスピードと容量を得ることができます。

・設計に依存しないセットアップ：設計ごとではなく、プロセスごとのジ

ョブファイルを作成可能

・設計に依存しないパフォーマンス：様々な設計スタイルもすばやく実行

・フルチップのOPC修正の際にもデータの増加を最小に抑制。

・他のいかなるツールよりも効率よく階層を保存

図４：Calibre OPCproは、通常の補正からより難しいものまで、OPC用にフレキシ

ブルなオプションを提供します。

マスク・フレンドリ：コストとTATを低減サブ・ウェーブレングスのレチクルセットのコストが増え、マスクの

TATと検証の問題が難しくなるにつれて、下流工程での処理をでき

るだけ簡素化することがOPC/PSMツールに求められています。例

えば、CalibreのOPCモデル・ベース・アルゴリズムとそのデフォルト

のセットは、マスク業界のパートナとの協業において、マスク・フレン

ドリなものになりました。

・デフォルトでのOPC形状は、マスク描画のスピードやマスク検査時

でのフォルス・エラーがゼロになるように調整されています。

・データの増加を最小限に抑えることで、下流工程でのマスク関連

のキャパシティやスループットの問題を回避できます。

・PSM用に変更されたレイアウトは、扱いにくい小さなジョグがチェ

ックされ、修正されます。

フレキシブルな補正「Just enough OPC(必要なところに必要なだけOPCを施す)」。こ

れが、補正をすみやかに成功させる最もよい方法です。Calibreファ

ミリは、以下の特長で簡単かつフレキシブルなフローを実現します。

・DRCライセンスを使ったルール・ベースのOPCを行い、ORCでモ

デル・ベースをチェック

・attenuatedやstrong PSMのような位相シフトマスクを認識し

たモデルベースOPC

・ORCまたはPRINTimage検証ツールは、位相マスク起因のサイ

ドローブの相互作用により発生するディンブルをチェック

・構造(線端, コーナー,等)、レイヤやブロックごとに、異なる補正や検

証が適用可能

まとめCalibreは業界で他に類を見ない検証／マニファクチャビリティ・

ソリューションを提供します。Calibreファミリは、フルチップOPC、

PSMそしてSBを統合した優れた製品群で、以下の特長を備えてい

ます。

・比類ないTAT

・設計に依存しないツールのセットアップと安定した高速の実行時間

・検証可能なデータのインテグリティ

・マスク・フレンドリな出力とデータ増大の抑制

・製造装置の延命

・より高速なチップスピードの実現

・歩留まりと利益を向上させる微細化時代のプロセス・ウィンドウ

製品の仕様は予告なく変更されることがありますのでご了承ください。Mentor Graphicsはメンター・グラフィックス・コーポレーションの登録商標です。その他記載されている製品名はすべて各社の登録商標または商標です。

05/01-R3-500-SI

図５Calibre WORKbenchのModelCenterは、モデル精度を微調整しビジュアル化する簡単かつ強力なグラフ作成機能を備えています。

Calibre WORKbenchのModel Flowツールは光学モデルとプロセスモデルの自動最適化と結果の解析を行う事が可能です。

本 社 〒140-0001 東京都品川区北品川４丁目７番３５号御殿山ヒルズ

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